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第619章 下一代光源的抉择（第3页）

“林叔，赵叔。”

苏远山见两人同时站在门口，连忙上前握手，梁梦松也上前打了招呼

见到跟在苏远山身后的梁梦松，林本坚倒没什么，赵凯东则是微怔了一下——此时张汝金不在，按照规矩，负责接待陪同苏远山的显然应该是德远的二把手来……

按照职位算，梁梦松只能排到德远的第五

这架势，看来苏远山是真铁了心的要全力推制程突破了

在接待室落座后，苏远山简单问了一下目前的进度——在光源领域，因为林本坚的加入，赵凯东团队进展得很快，他们即将完成193nm的准分子激光光源技术

虽然比起国外同行落后了差不多一年多，但好歹算是追上了。而且就现有的技术和理论来看，193nm将会成为很长一段时间内都无法突破的光源。否则灯塔国那边也不会成立EUV联盟，找寻新的出路了

当然，对于如何跨越193nm，除了EUV之外，也有其他的方案。譬如尼康和SVG就在准备攻克157nm的HeF2激光，以及电子束投射（EPL），离子投射（IPL）、甚至X光等等……

总之，就是解决的办法一箩筐，放眼望去全是路

但具体哪一条是真正的正道，谁也不知道

嗯，只有苏远山一个人知道

因为这些方案，都败给了眼前这个乐呵呵的老爷子

“林叔，赵叔，193nm之后你们的想法是什么？”坐到沙发上，苏远山端起茶杯抿了一口

赵凯东和林本坚对视了一眼，随后笑着道：“193nm看样子都要停留很久，你这么着急？”

“我本来是不着急的。”苏远山很坦白：“主要是老美那边搞EUV，搞得我有点心慌。”

赵凯东便笑着摇了摇头：“虽然说光源要比光刻机领先很多，但193nm的光源现在都尚未用在光刻机上，你心慌也没用。”

“至于说下一代光源，其实我和老林并不十分看好157nm，因为HeF2激光可以说要完全推翻现有的光路系统，非但物镜要重新搞，光刻胶也要重新研制……最主要的是，波长步进提升不大，且投入产出比太高了。”

“EUV，听起来很不错，有点下一代光源的意思。但你看EUV联盟那架势……就不是我们这个小作坊能够完成的。”

苏远山便笑道：“有您二位在，咱们这实验室可不是小作坊。”

“呵呵，不管是不是，但设计师不是有句话吗？摸着石头过河……既然前面有人趟路了，那我们也干脆摸着石头过河就行了。”赵凯东笑道：“intel不是拉了那么多企业吗？你也可以拉一个嘛。”

苏远山：“……”

他算是听明白了，赵凯东的意思是，让他也搞个EUV联盟

苏远山倒是想搞，可现在要是搞的话，那就不是远芯主导，而是所有人给霓国人打工

于是他便望向林本坚

“林叔？你有什么妙招没有？”

（注：虽然有点枯燥，但……总归还是得写。。。）

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